Photoresist er blanda af fjölliðum og sumum efnasamböndum, þar á meðal mikilvægast er photo acid generator (PAG). Þegar ljóseindir lenda í PAG myndast sýra sem hvarfast við fjölliðuna, brotnar niður og veldur því að framkallarinn leysir hana upp.
Photolithography photoresist er venjulega skipt í tvær gerðir: jákvæða photoresist og neikvæða photoresist.
Jákvæð ljósviðnám: Óvarinn hlutinn er leysanlegur í framkallalausninni, en ólýsti hlutinn er óleysanlegur í framkallalausninni. Eftir þróun er ljósþolsmynstrið sem eftir er á undirlaginu það sama og markmynstrið á grímuplötunni.
Neikvæð ljósviðnám: Ólýsandi hlutinn er óleysanlegur í framkallalausninni, en ólýsti hlutinn er leysanlegur í framkallalausninni. Ljósviðnámsmynstrið sem eftir er á undirlaginu eftir þróun er viðbót við markmynstrið á grímuplötunni.
Þess vegna, fyrir jákvæða ljósþol, ætingu undirlagsins án ljósþolsvörn eftir að ljóslithography er lokið, og loks þvo burt ljósþolið sem eftir er, nær eins-byggingarferli hálfleiðaratækja á yfirborð undirlagsins.
