Vöruyfirlit

Photoresist Striping Equipment er fullkomlega-sjálfvirkur blautur-vinnslubúnaður sem er tileinkaður photoresist stripping og málmlyftu-forritum fyrir hálfleiðaraiðnað.

Vélin er útbúin með bleyti, stripper og hreinum-þurrkólfum og lýkur öllu verkflæðinu, þar með talið ljósþolsupplausn með efnableyti, fjarlægingu á málmi og ljósþolnum, skolun og þurrkun á oblátum, sem gerir kleift að þurrka-við þurr-aðgerð. Það er samhæft við mörg undirlagsefni eins og Si, Gler, Safír, GaAs, InP, GaN, SiC, LT og LN. Hægt er að endurvinna flísarvökvann í gegnum fjölþrepa síunarkerfi. Valfrjálsar hólfastillingar (1-2 Soak, 1-2 Stripper, 1-2 Clean) uppfyllir bæði rannsóknar- og þróunarrannsóknarstofu og kröfur um fjöldaframleiðslu í miklu magni.

Kostir

Algjörlega-sjálfvirkur-þurrkun-í þurrkun

Sjálfvirkur oblátaflutningur og full-ferlaframkvæmd án handvirkrar íhlutunar. Öll skref til að fjarlægja, lyfta-af, þrífa og þurrka eru kláruð inni í verkfærinu til að koma í veg fyrir aukadiskamengun.

Áreiðanlegur ferli árangur

Hraði málmfjarlægingar＞99% og ljósþolsfjarlægingarhlutfall＞99%. Afköst agna nær minna en eða jafnt og 20ea@0.2μm til að tryggja háa framleiðsluafrakstur.

Sveigjanleg sérsniðin herbergi

Hólf fyrir bleyti, stripper og hreint hólf eru valfrjáls frá 1 til 2 settum. Hægt er að sníða stillingar fyrir litlar-loturannsóknir og há-afköst framleiðslulína.

Efnaendurvinnslukerfi

Marg-síun gerir kleift að endurheimta og endurnýta strípurvökva. Það dregur úr efnanotkun og rekstrarkostnaði á sama tíma og umhverfisvæna-framleiðslu er náð.

Umsóknir

Ítarlegar umbúðir
MEMS tæki
Power hálfleiðara tæki
RF samþættir hringrásir
Hálfleiðara ljósfræði
Optical Communication Components
Rannsóknastofur Háskólans og Rannsóknastofnunarinnar

Færibreytur

Atriði	Forskrift
Fyrirmynd	AST röð
Aðgerðaaðgerð	Photoresist Strip, Metal Lift-Slökkt
Stuðningur undirlag	Si, Gler, Safír, GaAs, InP, GaN, SiC, LT, LN
Uppsetning kammers	1-2 liggja í bleyti, 1-2 strípur, 1-2 hreinn (valfrjálst)
Agnastjórnun	Minna en eða jafnt og 20ea@0,2 μm
Hlutfall málmfjarlægingar	＞99%
PR Stripping hlutfall	＞99%
Stærð (3-hólfa)	2230 × 1980 × 2450 mm (B×D×H)
Stærð (6 hólfa)	3040 × 1980 × 2760 mm (B×D×H)
Vinnsluhamur	Sjálfvirkt, þurrkað-í þurrt-út
Efnakerfi	Strippari vökvasíun og endurvinnsla

Algengar spurningar

Sp.: Hvers konar undirlag getur Photoresist Stripping Equipment séð um?

A: Það styður Si, Glass, Sapphire, SiC, GaN, GaAs, InP, LN og LT. Vinsamlegast gefðu upp undirlagsefnið þitt og oblátustærð til að meta uppskriftina.

Sp.: Hvað þýðir þurrk í þurrkun?

A: Blátur eru settar í vélina í þurru ástandi. Bleytingu, afhreinsun, hreinsun og köfnunarefnisþurrkun er allt lokið inni í búnaðinum. Flötur eru losaðar alveg þurrar. Engin handvirk meðhöndlun á blautum oblátum, sem dregur verulega úr mengunarhættu.

Sp.: Er hægt að endurnýta strípurvökvann?

A: Já. Photoresist strippbúnaður er samþættur fjölþrepa síunarhringrásarlykkju. Endingartími efna fer eftir framleiðslugetu og styrk málmleifa. Kerfið fylgist með efnafræðilegri stöðu og minnir rekstraraðila á skipti.

Sp.: Hver er munurinn á þessu blauta lyftibúnaði og plasmaöskju?

A: Þessi búnaður framkvæmir blautt efnalyftingarferli. Það er hannað til að lyfta úr málmi og fjarlægir óþarfa málm ásamt photoresist. Plasma asher er þurrt ferli aðallega fyrir ljósþolsösku og hentar ekki til að lyfta þykkum málmi af.

Sp.: Er lítil lotuútgáfa í rannsóknarstofu í boði?

A: Já. Sveigjanlegt val á hólf er stutt. Fyrirferðarlítil uppsetning með 1 bleyti +1 stripper +1 hreinu hólfinu er fáanlegt fyrir rannsóknir og þróun, en fjölhólfa útgáfan þjónar fjöldaframleiðslu.

Sp.: Hvaða ávöxtunarkröfu getum við náð?

A: Undir fínstilltum uppskriftum er agnafjöldi Minna en eða jafnt og 20ea@0.2μm, málmfjarlægingarhlutfall og PR-fjarlægingarhlutfall bæði yfir 99%. Raunveruleg ávöxtun er einnig fyrir áhrifum af lithography andstreymis og málmútfellingarferlum. Við veitum tæknilega aðstoð við aðferðastillingar.

maq per Qat: ljósþols- og málmhreinsunarbúnaður, framleiðendur, birgjar, ljósþols- og málmhreinsunarbúnaðar í Kína