SAMANTEKT
Val á grímulausu steinþrykkkerfi (bein-skrift) er ein af stefnumótandi ákvörðunum fyrir háþróaða hreinherbergisaðstöðu. Þó að grímulaus tækni útiloki kostnað við innkaup á efnislegum ljósmyndum (sparnaður þúsunda dollara fyrir hverja endurskoðun) og dregur úr viðsnúningshringum hönnunar úr vikum í mínútur, þjáist búnaðarval oft af grundvallarmisskilningi á tækniforskriftum.
Ferlaverkfræðingar og innkaupateymi meta oft vélar eingöngu út frá einni „lágmarksstærð“ tölu á gagnablaði söluaðila. Í ljóslitafræði eðlisfræði tákna hins vegar einangruð mikilvæg vídd (CD) og þétt lágmarkslína/rými (L/S) reglubundin tónhæð algjörlega mismunandi sjónkerfi:
• Critical Dimension (CD) skilgreinir þröngasta einangraða eiginleikann (svo sem einangrað smárahlið eða snertisrönd) sem ljóskerfið getur útsett á ljósþolnum.
• Lágmarkslína/rými (L/S) skilgreinir minnstu endurtekna 1:1 lína og skurðarlotu (svo sem þétt ljósnet eða há-þéttleika samtengingarrútur) sem kerfið getur hreinsað án þess að brúa, skúra eða nálægðarbjögun.
Vél sem getur prentað 0,4 µm einangraðan geisladisk gæti þurft 0,8 µm lágmarkslínu/bil þegar mynstur er þétt reglubundið fylki vegna sjónrænna nálægðaráhrifa frá loftmyndum, skörun geisla-skammta og þröskulda gegn birtuskilum. Aftur á móti geta sérhæfð sjónkerfi, hönnuð fyrir samhverfa 1:1 mótun, leyst 0,5 μm CD samtímis með 0,5 μm línu/bili.
Þessi handbók veitir strangan verkfræðilegan ramma til að meta grímulaus steinþrykkkerfi Nice-Tech (MLM 100, MLM 200, MLM 400 og MLM 500) miðað við nákvæma rúmfræði tækisins þíns, viðnámsefnafræði, fókusdýpt (DOF) og afköst í hreinsherbergi.
1. INNGANGUR: AF HVERJU RÚÐFRÆÐI ræður VAL á búnaði
Í hreinherbergjum í örgerð hafa grímulaus steinþrykkjakerfi (einnig þekkt sem bein-skriflithography, digital micromirror device [DMD] vörpun eða staðbundin ljósmótarkerfi [SLM] kerfi) umbreytt hraðri frumgerð, samsettri hálfleiðaraframleiðslu og framleiðslu í litlum-til-miðlungs magni. Með því að útrýma líkamlegu krómi-á-kvarsljósmyndagrímum geta verkfræðingateymi endurtekið hönnunarútlit (GDSII eða OASIS skrár) í rauntíma.
Hins vegar, til að velja réttu vélina, þarf að horfa framhjá-yfirborðs markaðskröfum. Þegar væntanlegir kaupendur spyrjast fyrir um getu búnaðar er algengasta fyrirspurnin einfaldlega: "Hver er upplausn þessarar vélar?"
Í steinþrykk framleiðslu er „upplausn“ ekki ein tala. Ljósvél hegðar sér öðruvísi þegar einangruð línu er afhjúpuð samanborið við að afhjúpa hundruð samliggjandi samsíða lína sem eru míkrómetrar á milli. Ef þú velur búnaðarstillingu byggða á einangruðum geisladiski þegar tækið þitt krefst þéttra ristlína leiðir það óhjákvæmilega til bilunar í ferli-sem leiðir til línubrúa, stöðva fótfestu eða hrunna stærðarhlutfalla. Aftur á móti, að of-tilgreina kerfi fyrir þéttar undir-hálf-míkron línur þegar tækið þitt inniheldur aðeins 1,5 μm leiðarspor bætir við óþarfa fjármagnsútgjöldum og dregur verulega úr afköstum obláta.
Til að gera upplýsta B2B fjármagnsfjárfestingu verða kaupendur að greina efnislegan greinarmun á geisladiski og línu/bili, kortleggja þá beint á búnaðarforskriftir seljanda og meta undirliggjandi ljósaviðskipti-.
2. AÐSKIPTIÐ AÐRUN: EINANGUR CD VS. ÞÉTT LÍNA/RÍMI
Til að skilja hvers vegna optísk bein-skrifverkfæri tilkynna um mismunandi gildi fyrir einangraða geisladisk og þétta línu/bil þarf að skoða eðlisfræði loftmyndamyndunar, sjónræn nálægðaráhrif og ljósviðnámsefnafræði.
2.1 Hvað er Critical Dimension (CD)?
Í hálfleiðaramælingarfræði vísar Critical Dimension til víddarnæmasta rúmfræðiþáttarins innan samþættrar hringrásar eða MEMS tækis. Venjulega vísar geisladiskur til einangraðs eiginleika:
• Einangraður hliðarfingur á gallíumnítríð (GaN) há-rafeinda-hreyfanleikarara (HEMT).
• Einangraður sjónbylgjuleiðarahryggur í samþættri ljóseindarás.
• Einangrað snertiop eða framhljör í MEMS skynjara.
Þegar einangruð lína er afhjúpuð í grímulausu kerfi, einbeitir sjónvélin lýsingarorku á þröngan hluta ljósþols. Vegna þess að það eru engin aðliggjandi afhjúpuð mynstur í næsta nágrenni, dreifist dreifður ljós (dreifingarhlið-blaða) skaðlaust út í myrka svæðið. Með því að stilla nákvæmlega útsetningarskammtinn, tölulegt ljósop og þróunartíma, getur nútímalegt bein-ritkerfi náð ótrúlega fínum einangruðum CD-gildum-oft niður í 0,4 μm.
2.2 Hvað er lágmarkslína/bil (L/S)?
Aftur á móti vísar Lágmarkslína/Rými til þéttrar fylkingar af línum og rýmum til skiptis, venjulega stillt í 1:1 hallahlutfalli (jöfn línubreidd og skurðarbil):
• Optical diffraction rists, photonic kristallar, og distributed feedback (DFB) leysispeglar.
• High-density Interdigitated Electrode (IDE) lífskynjarar og örrafskautafylki (MEA).
• Þétt málmhúð og rútuleið í háþróuðum umbúðum.
Þegar sjónvél varpar mörgum þéttum geislum eða mótuðum örspegildílum skarast ljósbylgjur frá aðliggjandi línum vegna ljósdreifingar. Þessi sjónræna þverræðing skapar aukinn „bakgrunnsstyrk“ inni í ólýstu skurðinum á milli lína.
Sjónskilaskil loftmyndarinnar er skilgreind af mótunarflutningsaðgerðinni (MTF):
Andstæða=(I_max - I_min) / (I_max + I_min)
Þegar tónhæðin herðist hækkar I_min (styrkurinn í myrkri rýminu) verulega yfir núll vegna sjónrænna nálægðaráhrifa. Ef andstæða loftmynda fer niður fyrir efnafræðilega birtuskil ljósþolsins getur ljósþolið ekki greint á milli útsettu línunnar og ólýstu skurðarinnar. Þetta framleiðir klassíska hreinherbergisgalla:
• Standast brú: Ófullkomin þróun þar sem aðliggjandi línur renna saman.
• Resist scumming: Leifar af photoresist scum sem eru eftir í skurðgólfinu.
• Pattern Collapse: Vélræn bilun á þéttum viðnámslínum með-miklu-hlutfalli við þurrkun leysis.
2.3 Hvers vegna nær MLM 200 0,4 μm CD en 0,8 μm Line/Space?
Gott dæmi um þessa líkamlegu-viðskipti er að finna í Nice-MLM 200 líkaninu frá Tech:
• Critical Dimension (einangruð): 0,4 μm
• Lágmarkslína/rými (þétt 1:1): 0,8 μm
Þetta færibreytusnið er algengt í mikilli-nákvæmni beinni-litaprentun. MLM 200 notar einbeitt sjónsendingarvél sem getur skrifað mjög-fín einangruð eiginleika niður í 0,4 μm. Hins vegar, þegar línur eru settar hlið-við-hlið í þéttu 1:1 rist, krefst sjónrænnar nálægðaráfalls að lágmarksbili sé 0,8 μm til að tryggja nægjanlega ljósbirtuskil (I_max á móti I_min) til að hreinsa skurðinn alveg án þess að brúa.
MLM 200 er ákjósanlegur fyrir framleiðendur RF raforkutækja sem eru með 0,4 μm GaN HEMT hlið með breiðu -frárennslisbili (2 μm til 5 μm). Hins vegar, ef þessi sami þróunaraðili reynir að prenta 0,4 μm / 0,4 μm þétt rist (0,8 μm fullur tónhæð), mun sjónræn birtuskil rýrna, sem leiðir til þess að standast brúun nema ljóskerfi sem er sérstaklega fínstillt fyrir þétt 1:1 fylki sé valið.
2.4 Hvers vegna nær MLM 500 0,5 μm CD og samhverft 0,5 μm línu/rými?
Aftur á móti eru MLM 500 eiginleikar Nice-Tech:
• Critical Dimension (einangruð): 0,5 μm
• Lágmarkslína/rými (þétt 1:1): 0,5 μm
MLM 500 er með háu-tölulegu-ljósopi (háu-NA) vörpukerfi ásamt háþróaðri staðbundinni ljósmótun og undir-pixlabrúnuppbót. Þessi sjónstilling viðheldur mikilli MTF birtuskil, jafnvel við þrönga sjóntíðni, sem gerir ljósstyrknum kleift að lækka verulega á dimmu bilunum. Fyrir vikið er hægt að leysa þéttar 1:1 línur og rými samhverft niður í 0,5 μm án þess að skúra eða brúa.
3. TÆKNILEGT VALMATRÍS: FLOTT-TÆKNI GRÍMALAUS LITÓGRAFY LINEUP
Nice-Tech framleiðir fjögur sérstök grímulaus steinþrykklíkön, sem hvert um sig er hannað fyrir ákveðin framleiðslulén og rúmfræðileg snið. Taflan hér að neðan sýnir opinberar tækniforskriftir:
=================================================================================================================
Gerð geisladiskur (einangraður) Línulína/rými (1:1) Primary Optical Domain Cleanroom Focus
=================================================================================================================
MLM 100 0.8 μm 1.0 μm Balanced High-DOF Direct Write General R&D, MEMS, Microfluidics
MLM 200 0.4 μm 0.8 μm Fínt-Spot Sub-Micron Delivery GaN/GaAs RF, Power HEMT, Waveguides
MLM 400 1.0μm 2.0 μm breiður-Hátt svið-Þykkt mótspyrna vélar, RDL umbúðir, raforkukerfi
MLM 500 0.5 μm 0,5 μm High-NA Symmetric Contrast Engine Dense Optical Gratings, MEA, Crystals
=================================================================================================================
3.1 Nice-Tech MLM 100: The Cleanroom Workhorse (CD: 0,8 μm|L/S: 1,0 μm)
MLM 100 er hannað sem fjölhæfur burðarás fyrir fjölnota-nafriðunarmiðstöðvar háskóla, rannsóknarstofur í iðnaði og frumgerð MEMS.
• Geometrískt snið: Leysir áreiðanlega einangraða eiginleika niður í 0,8 μm og þéttar reglubundnar línur niður í 1,0 μm.
• Optískir eiginleikar: Virkar með optísku tölulegu ljósopi sem er fínstillt fyrir breitt ferli. Það veitir rausnarlega fókusdýpt (DOF venjulega > 5 μm til 10 μm eftir viðnámsþykkt), sem gerir það að verkum að það fyrirgefur landslag yfirborðs undirlags og lítilsháttar skífuboga.
• Samhæfni ferli: Samhæft við staðlaða jákvæða i-line / h-line novolac ljósþol (eins og AZ 1500, AZ 4562, Shipley S1800 röð) og neikvæða viðnám (SU-8, KMPR).
• Dæmigert forrit: Örflæðisrásir, líflæknisfræðilegar örflögur, framhleypingarhröðunarmælar, hljóðómunartæki og stöðluð prófunarkerfi á flísum-.
• Ráðleggingar um innkaup: Veldu MLM 100 ef hreinherbergið þitt sér um margvísleg verkefni, vinnur með miðlungs þykkt viðnáms (1,5 μm til 5 μm) og krefst ekki undir-hálfrar-míkróna eiginleika.
3.2 Nice-Tech MLM 200: Precision for Sub-Micron Devices (CD: 0,4 μm|L/S: 0,8 μm)
MLM 200 er tilgangs-smíðað fyrir hreinherbergi sem framleiða há-tíðni, samsett hálfleiðara og nákvæm ljós rafeindatæki þar sem undir-míkron einangruð eiginleikar eru í fyrirrúmi.
• Geometrískt snið: Nær mikilvægu vídd upp á 0,4 μm fyrir einangraðar línur, hlið og snertiræmur, með þéttri línu/rýmisgetu við 0,8 μm.
• Optískir eiginleikar: Notar sérhæfða geisla-myndandi ljósfræði og nákvæma lýsingu skammtastýringu til að skerpa brún andstæða á einangruðum mannvirkjum.
• Samhæfni við ferli: Virkar einstaklega með þunnum,-ljósviðnámum með mikilli birtuskilum (0,5 μm til 1,2 μm þykkt) eins og AZ 6112, AZ 703 eða SPR 700. Krefst þéttari fókusstýringar en MLM 100.
• Dæmigert forrit: T-hliðar- og sveppahliðsmynstur fyrir gallíumnítríð (GaN) og gallíumarseníð (GaAs) HEMT tæki, háhraðaljósskynjara, sjónbylgjuleiðaraleiðingu og undir-míkron einangruð málmlyftingar-af mannvirki.
• Ráðleggingar um innkaup: Veldu MLM 200 ef ferlið þitt krefst þess að mynstra þarf mikilvæg einangruð hlið eða línur á milli 0,4 μm og 0,8 μm án þess að þurfa þéttar reglubundnar fylkingar undir 0,8 μm.
3.3 Nice-Tech MLM 400: High-Throughput & Thick- Resist Processing (CD: 1,0 μm|L/S: 2,0 μm)
MLM 400 er sérsniðin fyrir aðstöðu sem hefur forgangsröðun í gegnumstreymi lýsingar, vinnslu á stóru-svæði og samhæfni við ofur-ljósviðnám.
• Geometrískt snið: Stillt fyrir 1,0 μm einangraðan geisladisk og 2,0 μm lágmarkslínu/bil.
• Optískir eiginleikar: Notar stærra sjónvörpunsvið og sjónlest með mikilli-dýpt-fókus. Útvíkkað DOF (oft > 20 μm til 50 μm í þykkum viðspyrnum) tryggir að ljós kemst djúpt í gegnum þykkar filmur án þess að rýra hliðarhorn.
• Afkastakostur: Vegna þess að hver sjónrammi nær yfir stærra lýsingarsvæði, er skriftími á diska umtalsvert hraðari en á fínum-upplausnarverkfærum. Hægt er að afhjúpa heila 100 mm eða 150 mm disk á MLM 400 á broti af þeim tíma sem undir-míkrónakerfi krefjast.
• Aðferðarsamhæfi: Tilvalið fyrir þykka-filmuljósþol (10 μm til 100 μm SU-8, AZ 4562, AZ 9260, pólýmíð, BCB).
• Dæmigert forrit: Háþróuð endurdreifingarlög (RDL), flísumbúða-flísumbúða (WLCSP), há-straumafl hálfleiðarasambönd, örvökvameistaramót, þykk rafhúðun og MEMS í magni.
• Ráðleggingar um innkaup: Veldu MLM 400 ef eiginleikar þínir eru stærri en eða jafnir og 1,0 μm, ferlið þitt notar þykka viðnámshúðun eða mikið afköst obláta er aðal viðskiptaleg forgangur þinn.
3.4 Nice-Tech MLM 500: Samhverf há-þéttleikaupplausn (CD: 0,5 μm|L/S: 0,5 μm)
MLM 500 er flaggskip Nice-Tech fyrir krefjandi ör-ljós-, ljóseinda- og þéttan reglubundinn skynjaraframleiðslu.
• Geometrískt snið: Gefur jafnvægi á 0,5 μm einangruðum geisladiski ásamt 0,5 μm þéttum 1:1 línu/bilbili (1,0 μm fullri risthalla).
• Optískir eiginleikar: Sameinar há-NA vörpun ljósfræði við háþróaða stafræna örspegilmótun og undir-pixelbrún. Þetta kerfi bælir niður dreifingarhliðar-blaða og kemur í veg fyrir uppsöfnun flökkuljóss í þröngum skurðum.
• Samhæfni við ferli: Krefst strangrar hitastýringar í hreinherbergi (±0,5 gráður) og þunnrar,-andstæður birtuskila (0,3 μm til 0,8 μm).
• Dæmigert forrit: Undir-míkróna dreifingarrist, ljósmetaefni, ljóskristalbylgjuleiðarar, hljóðbylgjur með þéttum yfirborði (SAW), interdigitated biosensors og microetrode arrays (MEA).
• Ráðleggingar um innkaup: Veldu MLM 500 ef arkitektúr tækisins þíns byggir að miklu leyti á þéttum, þéttpökkuðum reglubundnum mannvirkjum á hálfan-míkron mælikvarða.
4. AFLEIN VERKFRÆÐI VIÐSKIPTI-: HRAÐA, DOF OG JÖRUN
Þegar valið er á milli MLM 100, 200, 400 og 500 verða verkfræðingar einnig að íhuga þrjár mikilvægar aukafæribreytur sem hafa bein áhrif á daglegan rekstur hreinsherbergja:
4.1 Lýsingarhraði (afköst) á móti upplausn
Í öllum beinum-ritalitógrafískum verkfærum er grundvallaratriði -á milli lýsingarhraða og ljósupplausnar:
• Fín upplausn (eins og í MLM 200 og MLM 500) krefst minni áætlaðrar pixlastærðar og meiri stækkunar, sem þýðir að færri fermillímetrar af skífunni verða fyrir áhrifum á sekúndu fyrir tiltekið ljósgjafaafl.
• Slaka upplausn (eins og í MLM 400) notar stærri varpaða pixla, ná yfir stærri lýsingarsvæði fyrir hvert stafrænt flass og eykur afköst skífunnar verulega.
Þumalputtaregla: Aldrei kaupa meiri upplausn en arkitektúr tækisins krefst. Ef þéttasta málmlínan þín er 2,5 μm mun val á 0,4 μm tól lengja útsetningartímann að óþörfu úr mínútum í klukkustundir á hverja skífu.
4.2 Dýpt fókus (DOF) og viðnámsþykkt
Rayleigh dýptarfókusjöfnan stjórnar öllum vörpukerfi:
DOF=k₂ × λ / (NA)²
Taktu eftir að DOF minnkar með veldi töluljósopsins. Há-NA linsa sem er nauðsynleg fyrir undir-hálf-míkron upplausn gefur þrönga fókusdýpt (oft < 1,5 μm). Ef verkfræðingur reynir að spinna 15 μm þykka SU-8 mótspyrnu á há-NA tól, getur toppur mótstöðunnar verið í fókus á meðan botninn verður mjög óskýr, sem veldur undirskurði eða hallandi hliðarveggjum.
• For thick resists (>10 μm): MLM 400 veitir nauðsynlega fókusdýpt.
• Fyrir staðlaða viðnám (1,5 μm til 5 μm): MLM 100 veitir ákjósanlegt jafnvægi á upplausn og DOF.
• Fyrir ofur-þunnt viðnám (< 1.0 μm): The MLM 200 and MLM 500 excel at fine line delineation.
4.3 Lag-til-Jöfnun lags og nákvæmni yfirlags
Lithography tól starfar sjaldan í einangrun; það mynstur lög ofan á áður etsuð eða málmhúðuð mannvirki.
• Optísk jöfnun að ofan: Allar Nice-Tech MLM módel eru með há-upplausn véla-myndavéla sem geta sjálfvirka auðkenningu merkja, ná nákvæmni lags-til-lags yfirborðs, venjulega innan ±0,5 μm til ±0,2 μm.
• Jafnrétting á bakhlið: Nauðsynlegt fyrir MEMS í gegnum-skífuhol, þrýstiskynjara og raforkukerfi. Spyrðu um innrauða sendingu (IR) eða neðri-myndavélastillingar ef ferlið þitt krefst tvíhliða-skráningar.
4.4 Fjölhæfni undirlags og grímulausir kostir
Ólíkt stífum snertibúnaði eða minnkunarþrepum sem krefjast staðlaðs, -flats undirlags undirlags, veita Nice-tækni grímulaus kerfi alhliða samhæfni undirlags:
• Undirlagsstærðir: Fullar oblátur (2 tommur, 4 tommur, 6 tommur, 8 tommur og 12 tommur) auk óreglulegra klofna bita (allt að 5 mm × 5 mm).
• Undirlagsefni: Venjulegur kísill, gagnsæ blönduð kísil, kvars, gler, gallíumnítríð (GaN), kísilkarbíð (SiC), gallíumarseníð (GaAs), litíumníóbat og sveigjanlegt fjölliða hvarfefni.
• Kvikur sjálfvirkur fókus: Rauntíma-sjálfborðsmæling bætir sjálfkrafa upp fyrir boga- og fleygvillu undirlags, sem tryggir stöðugan fókus á skekktum samsettum hálfleiðurum.
5. sýnishorn af skífuprófun & SEM METROLOGY SANNINGAR
Áður en gengið er frá kaupum á fjármagnsbúnaði ættu tæknilegir kaupendur aldrei að treysta eingöngu á útgefin forskriftarblöð. Aðstæður fyrir hreinherbergi, mótefnablöndur og efnafræði þróunaraðila eru mjög mismunandi eftir aðstöðu.
Nice-Tech hvetur tilvonandi viðskiptavini eindregið til að framkvæma sýnishornsprófun á sýnishorni áður en innkaupapöntun er gefin út. Sannprófunarferlið ætti að meta fimm kjarna mælifræðifæribreytur með því að nota skanna rafeindasmásjá (SEM):
1. Critical Dimension Uniformity (CDU 3σ): Mælið miða CD yfir að lágmarki 20 punkta þvert á skífuna (miðja, miðja, brún) til að tryggja að víddarfrávik sé innan ±5%.
2. Þétt lína/rýmisbil: Staðfestu í gegnum-þversniðs-SEM að þéttir 1:1 skurðir séu lausir við hrúður, ör-brú eða standandi-bylgjur.
3. Hliðarhorn: Staðfestu að ljósþolnar hliðarsnið fara yfir 85 gráður (eða passa við vinnslukröfur þínar, svo sem afturgráða undirskurðarsnið til að lyfta-af).
4. Line Edge Roughness (LER) & Line Width Roughness (LWR): Skoðaðu há-stækkun efst-niður SEM myndir til að sannreyna sléttar línubrúnir, mikilvægar fyrir ljósabylgjuleiðaratap og frammistöðu RF hliðs.
5. Yfirlagsnákvæmni: Mynstrið prófunarkvarða yfir-fyrirliggjandi jöfnunarlag til að sannreyna endurtekningu skráningar yfir allt undirlagssvæðið.
6. FYRIR-GJÁLISTI AÐ INNKAUPUM: HVAÐ Á AÐ UNDIRBÚA ÁÐUR EN TILBÚÐ er beðið
Til að fá nákvæma, sérsniðna tilboð og uppsetningu búnaðar frá Nice- ættu tækni-, innkaupa- og vinnsluteymi að útbúa eftirfarandi tæknilega gátlista:
[1]. Markgrunnslýsing:
• Efni: Kísill, Kvars, Safír, GaN, SiC, Gler eða annað.
• Snið: Þvermál obláta (td 4 tommu, 6 tommu, 8 tommu) eða litlar klofnar flögur (td 10 mm × 10 mm).
• Yfirborðsástand: Slípað, málmhúðað, gegnsætt eða bogið (tilgreinið boga í míkrómetrum).
[2]. Kröfur um rúmfræði eiginleika:
• Lágmarks mikilvæg stærð (einangruð lína, hlið eða snertigat).
• Lágmarkslína/rými (krafa um þétta fylkishæð).
• Mikilvægt lag umburðarlyndi (td mark CD ± 5%).
[3]. Photoresist ferli:
• Gerð ljósviðnáms: Jákvæður, neikvæður eða tvískiptur-tónn.
• Nafn ljósþols: (td AZ 5214E, SU-8 2010, Shipley S1813).
• Markfilmuþykkt: (td 0,8 μm, 2,5 μm, 25 μm).
[4]. Kröfur um jöfnun og lagskipting:
• Einstaks útsetning eða fjöl-laga skráning.
• Jöfnunaraðferð: Optísk eða innrautt á bakhlið (IR).
• Nákvæmni yfirlagsmarkmiðs: (td < 0,5 μm).
[5]. Afköst og framleiðslumagn:
• Væntanlegt rúmmál obláta: (td 5 oblátur/viku fyrir R&D á móti . 50 oblátum/dag fyrir tilraunaframleiðslu).
• Krafa um sjálfvirkni: Handvirk hleðsla undirlags eða hálf-sjálfvirk meðhöndlun snælda.
[6]. Gagnasnið útlits:
• Staðlaðar hönnunarskrár tilbúnar: GDSII, OASIS, DXF eða CIF.
7. NIÐURSTAÐA OG NÆSTU SKREF: AÐGERÐU VIÐ NICE-TECH
Að velja rétta grímulausa steinþrykkjakerfið krefst jafnvægis á einangruðum geisladiski, þéttri línu/bilhæð, fókusdýpt, viðnámsþykkt og framleiðsluhraða.
• Ef hreina herbergið þitt þarfnast alls-R&D vinnuhests, þá veitir MLM 100 óviðjafnanlega fjölhæfni og ferlisbreidd.
• Ef fókusinn þinn er undir-míkron einangruðum eiginleikum fyrir RF og afl rafeindatækni, veitir MLM 200 0,4 μm CD nákvæmni.
• Ef aðstaða þín höndlar þykkt mótefni, háþróaðar umbúðir eða krefst hámarks afköst, er MLM 400 iðnaðarstaðallinn.
• Ef forritin þín krefjast þéttra 0,5 μm þéttra 1:1 reglubundinna fylkja, rista eða ljóseindamannvirkja, skilar MLM 500 samhverft sjónrænt yfirbragð.
Ertu tilbúinn til að meta hönnunina þína á fallegu-tæknigrímulausu lithography kerfi?
Farðu á opinberu vörusíðu Nice-Tech til að kanna nákvæmar vélaforskriftir:
Hafðu samband við Senior Applications Engineering Team okkar á dmjsemi.com til að leggja fram CAD/GDSII prófunarmynstur þínar fyrir ókeypis sýnishorn af oblátaútsetningu og SEM mælifræðiskoðun. Við munum stilla búnaðartillögu sem er hönnuð sérstaklega fyrir tæknilegan og fjárhagslegan vegvísi hreinsherbergisins þíns.
