RIE Etcher 12 tommu

RIE Etcher 12 tommu

RIE Etcher 12-tommu (Reactive Ion Etcher) okkar er nákvæmur þurrætingarbúnaður sem við þróuðum sjálfstætt – sérsniðinn fyrir háþróaða ör-nanovinnslu. Í kjarna sínum blandar það saman líkamlegri jónasprengjuárás með efnahvarfsaðferðum og slítur loksins í gegnum þennan erfiða „nákvæmnistjórnunarjafnvægi“ flöskuháls sem hefur lengi plagað hefðbundna ætingartækni.
Hringdu í okkur
Lýsing

Vöruyfirlit

 

RIE Etcher 12-tommu (Reactive Ion Etcher) okkar er nákvæmur þurrætingarbúnaður sem við þróuðum sjálfstætt-sérsniðinn fyrir háþróaða ör-nanovinnslu. Í kjarna sínum blandar það saman eðlisfræðilegum jónaárásum og efnahvarfsaðferðum og slær loks í gegnum þennan erfiða „nákvæmni-stjórnjafnvægi“ flöskuháls sem hefur lengi plagað hefðbundna ætingartækni. Það státar af framúrskarandi anisotropic etsunargetu og ofur-miklum efnisvalhæfi, sem gerir það að verkum að-kjarna vinnsluverkfæri fyrir hálfleiðaraframleiðslu, MEMS þróun og framleiðslu ljósrafeindatækja. Hvort sem þú ert að gera hágæða rannsóknarstofurannsóknir eða auka fjöldaframleiðslu í iðnaði, þá skilar þessi röð stöðugar, áreiðanlegar ferlilausnir sem þú getur treyst á.

 

Umsóknir

 

  1. Hálfleiðaraframleiðsla: Við notum það fyrir-framenda smáramynstur, bak-TSV ætingu og SOI undirlagsvinnslu-heildarverðs-til að draga úr flísferlum.
  2. MEMS Device Development: Það neglir nákvæma vinnslu á ör-skynjara, stýrisbúnaði og vökvaflögum, ætar áreiðanlega þrívíddarbyggingu (allt að 20:1 stærðarhlutfalli) á sílikon og fjölliður.
  3. Optolectronic Industry: Virkar fyrir sjónbylgjuleiðara, LED epitaxial oblátur, ljósnemar -þétt skipulagsstýring eykur skilvirkni ljóssins.
  4. Nanótæknirannsóknir: Pöruðust við ALE tækni, það fjarlægir-efni á frumeindastigi-mjög áreiðanlegt fyrir tvívíddarefni (grafen, MoS₂) og nanó-mynstur.

 

Kostir

 

Uni-líkamshönnunarhugmynd:

Fóta-prentun framúrskarandi (tilvísun 1,0m* 1,0m)

Samræmd hólfsmiðjudæla-niður:

Betri vinnsluafköst

Gasinntak sturtuhauss-inn, einnig hægt að stilla:

Stillt sem forstillt færibreyta háð

Plasma losunarbil er hægt að stilla:

Stillt sem forstillt færibreyta háð

Kostnaðar- eða frammistöðustilling valfrjáls:

RF, Pump, Values ​​o.fl. eftir kröfum

Dæmi meðhöndlun valfrjálst:

Opnaðu-Hlaða eða hlaða-Lás

 

Færibreytur

 

Forskrift

Færibreytur

Wafer Stærðarsvið

4,6,8,12 tommu eða fjöl-oblátur valfrjáls

Ætsefni

Si-Byggt (Si/ SiO2/ SiNx/ SiC/ Quartz o.s.frv.), efnasambönd
(InP/ GaN/ GaAs/ Ga2O3/ ZnS, osfrv.),1D&2D efni
(MoS2/BN/Graphene, osfrv.), Málmar (Au/Pt/W/Ta/Mo, osfrv.),
Bilanagreining o.fl.

Tómarúm

TMP og vélræn dæla

RF Power

Fullsvið 300-1000W, valfrjálst

Gaskerfi

4 línur (Staðlað) eða sérsniðin

Wafer Cooling

Vatnskæling eða He Backside Cooling valfrjálst

Wafer Stage
Hitastig
Svið

Frá-70 gráður til 200 gráður, valfrjálst

Ó-samræmi

Minna en ± 5% (útilokun kants)

 

Algengar spurningar

 

Hvers konar efni getur RIE Etcher 12 tommu unnið?

Það nær yfir Si-undirstaða efni, samsetta hálfleiðara, 1D&2D efni, málma o.s.frv., og styður einnig bilunargreiningu tengdra efna.

Hvaða oblátastærðir eru studdar?

Samhæft við 4/6/8/12-tommu oblátur og fjölþráða vinnslu, með sérsniðnum lausnum í boði fyrir sérstakar stærðir.

Hver er einsleitni ætingarinnar?

Ó-samræmið er<±5% after edge exclusion, ensuring full-wafer processing consistency.

Hvert er hitastigið á oblátastiginu?

Valfrjálst -70 gráður til 200 gráður, uppfyllir kröfur um lágt-hitastig til háhita ætingarferla.

Hversu margar gaslínur eru í stöðluðu uppsetningunni og er hægt að aðlaga það?

Staðlaða uppsetningin inniheldur 4 gaslínur, sem hægt er að aðlaga og stækka í samræmi við flóknar ferliþarfir.

Hvað er RF aflsviðið?

Nær yfir allt svið 300-1000W, hægt að velja eftir beiðni.

Hverjar eru sýnishornsaðferðirnar?

Býður upp á tvo valkosti: Opna-hlaða og hlaða-læsingu, aðlagast mismunandi framleiðsluhagkvæmni og umhverfisstjórnunarþörfum.

Hvaða tómarúmskerfi er búið?

Samþykkir blöndu af TMP túrbósameindadælu og vélrænni dælu til að tryggja stöðugt lofttæmisumhverfi sem þarf til ætingar.

Er viðhald búnaðar þægilegt?

Samþætt hönnunin einfaldar innri uppbyggingu, lykilhlutir eru auðveldir í viðhaldi, dregur úr niður í miðbæ og erfiðleika við viðhald.

Er hægt að stilla plasma losunarbilið?

Það er hægt að stilla og stilla það sem forstillta færibreytu í samræmi við vinnslukröfur til að ná nákvæmri ætingarstýringu.

Styður það kostnaðar-miðaða eða árangursmiðaða-stillingarvalkosti?

Styður báðar stillingar; Hægt er að velja lykilþætti eins og RF aflgjafa, dælu og lokar eftir beiðni til að jafna kostnað eða bæta árangur.

Er hægt að aðlaga obláta kæliaðferðina?

Styður tvo valkosti: vatnskælingu og He-bakkælingu, með sérsniðnum lausnum í boði fyrir sérþarfir.

 

maq per Qat: rie etcher 12-tommu, Kína rie etcher 12-tommu framleiðendur, birgja

Hringdu í okkur